Новый высокоэффективный светоизлучающий материал

Новый высокоэффективный светоизлучающий материал



Наука

Японские ученые из Национального института передовой промышленной науки и технологии (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology) разработали новую полупроводниковую структуру, которая может использоваться в качестве ультрафиолетового лазера в оптическом приводе.

Изобретение, как утверждают его создатели, поможет достичь более высокой плотности записи информации на гибкий диск.

В основе нового материала лежит слой оксида цинка толщиной 1 мм, полученный с помощью метода молекулярно-лучевого эпитаксиального выращивания кристаллов. Оксид цинка играет роль активного слоя. Вместо двух барьерных слоёв, которые используются в традиционных светоизлучающих устройствах, японские ученые предложили применить один – ZnMgO. В ходе исследований было замечено, что ZnMgO позволяет добиться еще большей эффективности излучения, чем ZnO. Поэтому в будущем планируется опробовать ZnMgO в качестве активного слоя.

Материал на основе оксида цинка может использоваться в высокоэффективных ультрафиолетовых светоизлучающих диодах, полупроводниковых лазерах, а также высокоэффективных источниках белого света.

По материалам: 3D News



Теги: Материал, Полупроводник, Излучение, Цинк, Оптика




Новое по теме: Наука


Тематические новости:


Категория: Техника » Наука
| 19-07-2007, 10:08 | Просмотров: 2336 | Комментарии (0)

Реклама

 

Загрузка ...

 

 




Комментарии:


Добавление комментария:

 Ваше Имя:
 Ваш E-Mail:
Введите код:

( Ctrl + Enter )

 






Copyright 2005 - 2016 © GizMod.Ru | GizModo.Ru | GizmoSoft.Ru | GizMobi.Ru
При републикации приветствуется ссылка на первоисточник.
Запросов: 3 (0,0329).